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技術文章

日本shinkuu等離子清洗裝置介紹

日本shinkuu等離子清洗裝置介紹


多用途樣品儲存/等離子清洗裝置 VE2030 特殊規格修改裝置

它是一種與電子顯微鏡觀察樣品相關的多用途設備,具有三種功能。
使用渦輪分子泵 (TMP) 獲得的清潔高真空作為主排氣系統,( 1)
通過用射頻激發等離子體照射和加熱來清潔樣品架。
(2) 金屬和碳在高真空氣氛中的真空沉積,以及 TEM 和 SEM 隔膜的熱清洗。
(3)電子顯微鏡樣品架和FIB裝置樣品架的真空儲存。

它是一種特殊規格的設備,配備有排氣系統序列控制、渦輪泵、隔膜泵和全量程真空計。

SEM樣品儲存裝置

為了在真空下儲存樣品和 SEM 樣品架,可以儲存大量樣品。
交換樣品時,專用交換室允許裝載和卸載樣品,而不會將儲存的樣品暴露在大氣中。



















生產線

  • 儲存設備

  •  TVS-40T 獨立四腔型

  •  TVS-10T腔體擴容機型

  •  SVS-100T SEM樣品專用機型

  • 濺射設備

  •  MSP-40T 多用途、多目標支持

  •  兼容 MSP-20TK 鎢絲燈等

  •  MSP-20UM 通用型,全自動

  •  MSP-1S 標準型號

  •  MSP-mini φ30mm靶材,低價

  •  MSP-20MT φ100mm 通用型,全自動

  •  MSP-8in φ200mm ? Pt 鍍膜機

  •  MSP-12in φ300mm ? Pt 鍍膜機

  • 鋨涂層機

  •  HPC-20 全自動寬樣臺

  •  HPC-1SW 低價,寬樣品架

  •  HPC 選項 提高功能和安全性

  • 碳涂層機

  •  替換芯型碳 SLC-30

  •  VC-100S / 100W φ0.5mm 僅用于碳

  • 多沉積設備

  •  VES-10碳飛濺/親水處理

  • 真空蒸鍍設備

  •  VE-2030 許多選項/改造支持

  •  VE-2013 緊湊型臺式,超高速真空排氣

  •  VE-2012 緊湊型臺式,超高速真空排氣

  •  薄膜沉積設備選項

  • 等離子處理設備

  •  PCU-30 樣品去污

  •  PIB-20 寬樣品臺 親水處理

  •  PIB-10 低成本親水處理

  • 叔丁基凍干裝置

  •  VFD-30 全自動高性能機型

  •  VFD-21S 低價長銷機型

  • 速凍裝置

  •  VFZ-101 冷凍分割工具組


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